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      感應加熱電源在金屬化真空蒸鍍的行業應用
      發表于:2019-06-21 10:35 分享至:
      真空蒸鍍使用的加熱方式主要有:電阻加熱、電子束加熱。射頻感應加熱、電弧加熱和激光加熱等幾種。不論哪一種加熱方式,都要求作為蒸發源的材料具有以下性能:熔點高;蒸氣壓低;在蒸發溫度下不與大多數蒸發材料發生化學反應或互溶,同時具有一定的機械強度。
      (1)電阻加熱:電阻加熱源是普遍使用的蒸發源,它結構簡單、操作方便。典型的導電加熱體材料有鎢、鉭、鉬和碳等。導電加熱體的電阻加熱通常采用低電壓(<10 V)、大電流(幾百安培)加熱方式??筛鶕舭l材料的性質以及蒸發源材料的浸潤性加以選用。
      (2)電子束加熱:電子束加熱法的基本原理是基于由熱陰極發射的電子在電場作用下,獲得動能轟擊到作為陽極的蒸發材料上,將其動能轉化為加熱材料的內能而使材料蒸發。由于聚集電子束的能量密度大,可使材料表面局部區域達到3 000℃~4 000℃的高溫,適于蒸發高熔點金屬、化合物材料和要求高蒸發速率的場合。
      (3)射頻感應加熱:感應加熱是將射頻電源的能量直接耦合到金屬、石墨一類的導體上,其原理是利用高頻電磁場在導體材料中感生的熱量來直接加熱導體本身。
      (4)電弧加熱:電弧蒸鍍利用高真空中兩導電材料制成的電極之間形成電弧放電產生的高溫,使電極材料蒸發而在基體上凝聚成膜。
      (5)激光加熱:脈沖激光加熱表面可實現材料的瞬時蒸發,脈沖激光作為一種新的加熱源,其特點之一是能量在時間和空間上高度集中,與常規的熱蒸發有顯著區別。帶有離子轟擊裝置的激光蒸發,已用于若干材料的低溫沉積,其中包括高質量的高溫超導氧化物薄膜。激光蒸發可用于透明材料上薄膜的蒸發,從透明材料的背面照射待蒸發薄膜,把基體面向待蒸發薄膜放置,通過控制蒸發區域,則在基體上可沉積出帶花紋的薄膜
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